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O2氧等離子體處理對殼聚糖膜表面性能的影響 低溫等離子體可以在室溫下對材料進行表面改性處理,在材料表面引入自由基或活性官能團，采用O2等離子體處理能有效改善殼聚糖膜表面親水性,主要原因是等離子體處理在殼聚糖膜表面引入-OH、-COO、H2N-C=O等極性基團。

Sep. 28, 2025

功率模塊封裝基板等離子清洗技術應用 與現有技術中對功率模塊封裝基板的清洗技術對比而言，等離子清洗技術取代了液體化學清洗方法，以避免對基板上的功率器件和電路布線的腐蝕，同樣，取代了激光清洗方法，以減少粉塵的產生和對基板的沾污。

Sep. 27, 2025

常見的大氣壓冷等離子體發生裝置 產生大氣等離子體射流的裝置組成般為氣體源、電源和等離子體發生器。電源按照不同的性質特點分為中頻 交流電源、直流電源、射頻電源等。常見的大氣壓冷等離子體發生裝置可分為介質阻擋放電裝置和裸電極放電裝置。

Sep. 27, 2025

低溫等離子體絕緣材料表面改性應用 面向絕緣材料對表面耐電、耐候等綜合性能優化提升的切實需求,發展新型的絕緣材料表面改性及性能提升技術具有十分重要的意義。低溫等離子體技術因其高反應活性、處理效果可控、綠色無污染等特點,在材料表面改性領域展現出獨特優勢。

Sep. 25, 2025

等離子體灰化工藝 等離子灰化工藝的核心在于通過等離子體氧化反應有效去除光刻膠。等離子體中產生的活性物質,如原子氧或氟自由基,具有極強的反應性,能夠與光刻膠發生化學反應,從而實現高效去除。

Sep. 19, 2025

PDMS表面氧等離子體處理提高親水潤濕性能 在聚二甲基硅氧烷(PDMS)微納米器件的制造過程中,經常需要在PDMS基片表面進行光刻膠的圖形化。通過對PDMS基片表面進行氧等離子體改性處理,提高了PDMS的表面潤濕性,使得光刻膠可以均勻地旋涂在PDMS基片表面。

Sep. 17, 2025