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等離子體這一術(shù)語(yǔ)最初是由IrvingLangmuir在1928年定義的。在特殊的氣體狀態(tài)下,至少有一個(gè)電子脫離了原子的束縛,形成了帶電粒子,即離子。這種氣體中的電離程度可以有很大的變化,從完全電離到只有部分粒子電離。等離子體不僅包含各種帶電粒子,如正離子和負(fù)離子,還包含許多未電離的中性組分,例如原子、分子、自由基以及處于激發(fā)態(tài)的粒子。這些激發(fā)態(tài)的粒子能夠發(fā)出光,這是等離子體發(fā)光特性的來(lái)源。這些組分之間的相互作用賦予了等離子體高度的反應(yīng)活性,使其成為一種動(dòng)態(tài)且復(fù)雜的化學(xué)環(huán)境。正因?yàn)檫@種高度活性,等離子體在眾多領(lǐng)域中展現(xiàn)出廣泛的應(yīng)用潛力。在材料科學(xué)領(lǐng)域,等離子體被用于沉積薄膜、改變材料表面特性以及制造納米材料。在微電子工業(yè)中,等離子體技術(shù)被應(yīng)用于微芯片的制造過(guò)程。此外,等離子體的發(fā)光特性使其在光源、激光器和顯示技術(shù)中也有應(yīng)用。等離子體的多功能性還擴(kuò)展到了環(huán)境和醫(yī)療領(lǐng)域,例如用于消毒、傷口處理,甚至在癌癥治療中也顯示出其潛在的應(yīng)用價(jià)值。隨著對(duì)等離子體物理和化學(xué)特性的進(jìn)一步研究,預(yù)計(jì)將發(fā)現(xiàn)更多的創(chuàng)新應(yīng)用。

等離子體常被稱作“物質(zhì)的第四態(tài)”,如圖所示,它是一種特殊的電離氣體形態(tài),由電子和正離子構(gòu)成,這些電子和離子源自中性原子或分子的轉(zhuǎn)化。在等離子體中,由于系統(tǒng)內(nèi)部的電阻率,會(huì)產(chǎn)生顯著的熱量,導(dǎo)致氣體分子進(jìn)一步解離成原子狀態(tài)。隨著溫度的升高,電子更容易從原子中脫離,這個(gè)過(guò)程稱為電離,它在等離子體中產(chǎn)生了大量高能且具有高化學(xué)反應(yīng)活性的物質(zhì)。在等離子體中,電子和正離子的密度大致相等,從而形成了準(zhǔn)中性狀態(tài)。電子由于其質(zhì)量輕、遷移率高,在電場(chǎng)作用下會(huì)首先獲得能量,成為等離子體化學(xué)過(guò)程中能量供應(yīng)的關(guān)鍵。電子是帶有負(fù)電的基本粒子,其質(zhì)量遠(yuǎn)小于離子和中性粒子,大約輕三個(gè)到四個(gè)數(shù)量級(jí)。電子因其數(shù)量眾多且具有足夠的能量,能夠維持等離子體的化學(xué)活性。電子獲得能量后,會(huì)將其傳遞給等離子體中的其他組分,為電離、激發(fā)、解離和其他等離子體化學(xué)過(guò)程提供必要的能量。這種能量傳遞過(guò)程可以通過(guò)電子能量分布函數(shù)(EEDF)來(lái)描述。電離過(guò)程主要分為五種類型:直接通過(guò)電子沖擊引起的電離、通過(guò)電子沖擊的逐步電離、由大質(zhì)量粒子碰撞引起的電離、光引起的電離以及由表面引起的電離。這些過(guò)程共同構(gòu)成了等離子體復(fù)雜的化學(xué)和物理特性,使其在科學(xué)研究和工業(yè)應(yīng)用中具有重要價(jià)值。

物質(zhì)的等離子體狀態(tài)

等離子體工藝的原理

等離子體技術(shù)中的電離反應(yīng)如圖所示,其由Fridman和Kennedy提出,主要涉及等離子體中的化學(xué)反應(yīng)動(dòng)力學(xué),尤其是在等離子體處理和材料合成過(guò)程中的電離機(jī)制。其集中在等離子體中電子與分子或原子的碰撞導(dǎo)致的電離過(guò)程,以及這些過(guò)程對(duì)等離子體化學(xué)和物理特性的影響。在等離子體化學(xué)中,電離過(guò)程通常指的是電子與分子或原子碰撞,導(dǎo)致電子從原子或分子中被剝離出來(lái),形成正離子和自由電子的過(guò)程。

電離反應(yīng)

輝光放電等離子體是一種通過(guò)輝光放電現(xiàn)象產(chǎn)生的等離子體狀態(tài)。輝光放電通常發(fā)生在低氣壓環(huán)境中,當(dāng)兩個(gè)電極之間施加電壓時(shí),會(huì)產(chǎn)生電子和離子,這些帶電粒子與氣體原子或分子相互作用,導(dǎo)致氣體電離,形成等離子體。

等離子體處理工藝的應(yīng)用

等離子體處理技術(shù)是一種先進(jìn)的干式處理方法,它通過(guò)利用等離子體中活躍的粒子(包括高能電子、離子和光子)與材料表面產(chǎn)生反應(yīng),進(jìn)而對(duì)材料表面的化學(xué)組成和形態(tài)進(jìn)行改變。等離子體是由部分電離的氣體構(gòu)成,其中自由電子和正離子數(shù)量大致相等,使其成為導(dǎo)電體并對(duì)磁場(chǎng)產(chǎn)生響應(yīng)。等離子體工藝的應(yīng)用主要包括以下幾個(gè)方面:一、等離子體處理可以導(dǎo)致四種主要的表面效應(yīng),包括表面清洗、表面蝕刻、表面附近的分子交聯(lián)及表面化學(xué)結(jié)構(gòu)的改變。二、電子碰撞和光化學(xué)作用可以導(dǎo)致分子分離,產(chǎn)生包含高密度自由基的等離子體,這些自由基可以導(dǎo)致材料表面化學(xué)鍵斷裂,形成新的化學(xué)物質(zhì)。三、等離子體處理可以在材料表面引入新的官能團(tuán),如羥基(-OH)、醛基(-COH)及羧基(-COOH),這些官能團(tuán)可以改變材料的潤(rùn)濕性并有利于分子的處理。四、除了化學(xué)結(jié)構(gòu)的改變,等離子體處理還會(huì)導(dǎo)致材料表面物理性能的變化,如表面形貌的變化。五、等離子體工藝是一種低溫、干燥、環(huán)保的處理方式,適用于新材料和新領(lǐng)域的開發(fā),可以獲得傳統(tǒng)處理方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體工藝因其獨(dú)特的物理和化學(xué)性質(zhì),已成為材料表面處理的一種有效工具,廣泛應(yīng)用于表面清洗、蝕刻、活化、涂層和改性等領(lǐng)域。