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氧等離子體清洗技術(shù)作為一種新型的表面處理技術(shù),已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、醫(yī)療、航空、等要求高潔凈度表面的高科技領(lǐng)域以及工業(yè)制造方面。這種氣體可以在可控條件下被引導(dǎo)到需要進(jìn)行表面處理的物體表面上進(jìn)行清潔和改性。

該技術(shù)通過高電壓電極產(chǎn)生輝光放電,氧氣分子在電場的作用下被離子化。經(jīng)過離子化的氧離子與外部電子碰撞之后重新結(jié)合形成自由基或者分子等化學(xué)組分。此時反應(yīng)腔內(nèi)同時存在電子、自由基、離子、中性分子,各種組分之間相互作用和碰撞,反復(fù)發(fā)生質(zhì)量和能量的轉(zhuǎn)移,形成了非常活躍的化學(xué)物理反應(yīng)體系。放電形成的等離子體或等離子激活的化學(xué)活性物質(zhì)與材料表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),等離子體中的活性氧與材料表面的有機(jī)物進(jìn)行氧化反應(yīng),氧等離子體與材料表面有機(jī)物作用,生成CO等揮發(fā)性分子,增強(qiáng)材料表面的粘附性能,提高表面的親水性。氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)的方式,降低表面的垢和油污含量,使得表面清潔度得到大幅提升。同時再處理過程中等離子體清洗能夠增加表面活性,經(jīng)過氧等離子體清洗引入反應(yīng)性氣體,在材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成新的官能團(tuán),例如羥基、羧基等與表面自由基、形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)層使得材料表面特性發(fā)生突變,進(jìn)而獲得新的化學(xué)結(jié)構(gòu),使其更易于潤濕和擴(kuò)散。

氧等離子體清洗有機(jī)物原理圖

氧等離子體清洗具有低溫、不污染、高效、快速、易于控制等特點(diǎn)。等離子體的化學(xué)反應(yīng)條件下,表面處理溫度比傳統(tǒng)技術(shù)要低,因此在保證物品本身質(zhì)量的前提下,可大幅減少能源的消耗。氧等離子體清洗技術(shù)不生成任何廢氣、廢水和廢渣等有害物質(zhì),減少了污染和廢物處理成本。

總體來說,氧等離子體清洗技術(shù)是一種綠色環(huán)保且高效快速的表面處理技術(shù),在該技術(shù)的處理下,提高材料的表面親水性,為后續(xù)基底處理過程提供了極大的便利。同時隨著科技進(jìn)步和理解的深入,氧等離子體清洗技術(shù)將更加精細(xì)化,其對于材料表面的處理將會更加可控化。