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等離子刻蝕機主要由高真空刻蝕腔、真空抽氣系統、真空測量系統、壓力控制系統、電源系 統、工藝氣路系統、冷卻系統、電氣控制系統和控制軟件等部分組成。

等離子刻蝕是一種選擇性干法刻蝕方法，用于各種半導體器件、MEMS器件等的制造技 術，蝕刻用于形成非平面微觀結構-溝槽或臺面結構，以及具有受控角度的傾斜側壁，其兼 具高精加工精度和再現性。可刻蝕的材料包括但不限于單晶硅、多晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、聚合物等。